Al igual que el grafeno, el
fosforeno es un semiconductor natural, que podría tener incluso mayor capacidad
para dar un impulso "turbo" a la próxima generación de computadoras.
El nuevo material ya ha sido utilizado para fabricar transistores
rudimentarios.
El fosforeno consiste de átomos
de fósforo y tiene una estructura similar al grafeno, aunque este último es una forma de carbono puro, de unos pocos
átomos de espesor. Esta característica permite que los electrones se desplacen
sobre su superficie a una velocidad mucho mayor que el silicio, componente
fundamental de los actuales microprocesadores. Hasta ahora, la intención ha
sido que los chips de grafeno sustituyan con el paso del tiempo al silicio,
dando así paso a computadoras mucho más rápidas que las actuales.
Sin embargo, el grafeno tiene
una limitación fundamental, según explica Peide Ye, de la Universidad Purdue de
West Lafayette, Indiana, Estados Unidos, a la publicación New Scientist. Esta
limitación, o “problema”, es que el grafeno es un conductor “demasiado eficaz”
de la electricidad.
En un artículo publicado el 24
de enero, New Scientist explica que, por el contrario, el silicio es un
semiconductor, que puede ser inducido a conducir la electricidad, o a bloquear
su flujo. Esta capacidad que tiene el silicio de actuar como interruptor es la
característica que define a los transistores, y que hace posible activar la
lógica binaria que opera en el núcleo de un chip de computadora. “Precisamente
por tal razón no creo que el grafeno pueda realmente competir con el silicio en
circuitos integrados”, explicó Ye, que acto seguido explicó las características
del fosforeno.
Según el científico, el
fosforeno es ultra delgado, al igual que el grafeno, pero consiste de átomos de
fósforo. Su característica más atractiva es que, al igual que el silicio, es un
semiconductor natural. Ye explica la cadena de acontecimientos que le llevó a
estudiar más detenidamente el fosforeno, y a contrastar sus características con
el grafeno. En lo que indudablemente constituye un reconocimiento de alto nivel
a Wikipedia, por tratarse de un científico, Ye explicó: “Cuando busqué sus
características en Wikipedia, en 30 minutos llegué a la conclusión de que tenía
todo el potencial”.
Siguiendo un procedimiento
relativamente sencillo, que consiste en confeccionar una película de fosforeno,
los científicos pudieron crear transistores rudimentarios basados en una capa
única de fosforeno, integrándola con otros materiales bidimensionales, y
silicio.
New Scientist menciona que de
manera paralela al equipo de la Universidad Purdue, otros equipos científicos
también están estudiando las aplicaciones del fosforeno, por ejemplo, la
Universidad Fudan de Shanghai, China, y la Universidad de Maryland.
La publicación concluye
señalando que está por verse si el
fosforeno realmente podrá competir con el silicio. En particular, muchos
dependerá de la capacidad de la industria de crear grandes capas de fosforeno,
necesarias para su aplicación práctica.
Más información
New Scientist http://www.newscientist.com/article/dn24939-graphene-rival-phosphorene-is-born-to-be-a-transistor.html
Fuente: Diario TI
